Hedef Ünite Altyapısı Tasarım ve İmalatı

Ark Buhar Biriktirme Hedef Altyapıları

Metal kaynağı buharlaştırmak ve metal partikülleri haline getirmek için düşük voltaj ark kullanırlar. Kaplanacak parçalar birden fazla eksende dönerken reaktif gazlarla birleşerek plazma haline gelen metal partikülleri malzemeye tutunarak görünen tüm yüzeyi kaplar.

Magnetron Püskürtme Hedef Altyapıları

Pozitif yüklü iyonlar oluşturarak bir elektrik alan tarafından hızlandırır ve daha sonra hedef parçaların üzerine bindirir. Bu işlem, tıp endüstrisinde optik film üreten ve laboratuvar ürünleri kaplayan makinelerde sıklıkla kullanılmaktadır.

İyon Işını Püskürtme Hedef Altyapıları

Bir iyon ışını buharlaştırılacak malzemenin yüzeyine doğru yüksek bir elektrik alanı yönlendirir. Bu, metal buhar gazlarının iyonlaşmasına neden olur, ardından momentum transferi bu iyonları hedef üretim kısmına yönlendirir.

Termal Buharlaştırma Hedef Altyapıları

Darbeli lazer biriktirme ve elektron ışını biriktirme. Her iki işlem de bir metal malzemeyi (Titanyum, Zirkonyum, Krom, Alüminyum veya Bakır gibi) bir vakumda buharlaştırmak için enerji kullanır. Vakum daha sonra buhar ürünlerinin, bir kez daha yoğunlaşacağı ve ince, sertleştirilmiş, nispeten daha soğuk üretim parçalarına gitmesini sağlar.